Arustamov Vladimir Nikolaevichning
fan doktori (DSc) dissertatsiyasi himoyasi haqida e’lon

I. Umumiy ma’lumotlar.
    Dissertatsiya mavzusi, ixtisoslik shifri (ilmiy daraja beriladigan fan tarmogʻi nomi): “Vakuum-yoy razryadi katod dog‘laridagi fizik jarayonlar va metall sirtiga ta’sirlashning vakuum yoyli usullari”, 01.04.04 - Fizik elektronika (fizika-matematika fanlari).
    Dissertatsiya mavzusi ro‘yxatga olingan raqam: B2024.1.DSc/FM260.
    Ilmiy maslahatchi: Ashurov Xatam Baxronovich, texnika fanlari doktori, professor.
    Dissertatsiya bajarilgan muassasa nomi: U.A. Arifov nomidagi Ion-plazma va lazer texnologiyalari instituti.
    IK faoliyat ko‘rsatayotgan muassasa nomi, IK raqami: Ion-plazma va lazer texnologiyalari instituti, DSc.02/30.12.2019.FM/T.65.01.
    Rasmiy opponentlar: Kremkov Mixail Vitalevich, fizika-matematika fanlari doktori, professor; Maksimov Sergey Evlantievich, fizika-matematika fanlari doktori, kat.i.x.; Tashatov Allanazar Qarshievich, fizika-matematika fanlari doktori, professor.
    Yetakchi tashkilot: Islom Karimov nomidagi Toshkent davlat texnika universiteti.
    Dissertatsiya yo‘nalishi: nazariy va amaliy ahamiyatga molik.
    II. Tadqiqotning maqsadi. Katod dog‘larida vakuum yoyi razryad jarayonlarining avtoelektron emissiyasi asosida amalga oshirilish shartlarini va katod dog‘i xususiyatlarini analitik ravishda aniqlash, katod plazmasining elektrod materiali yuzaga yaqin qatlami xususiyatlariga ta’sirini aniqlash, shuningdek, volfram karbidi nanozarrachalarini olish usullarini, turli geometriyaga ega metall mahsulotlar yuzasini vakuum- yoy usulda ishlov berish usullarini shakllantirishdan iborat.
    III. Tadqiqotning ilmiy yangiligi:
    ilk bor vakuum yoyi katod dog‘i jarayonlarni analitik tadqiq qilish doirasida F-tipli elektronlar emissiyasi bilan vakuum razryadi katod materiali atomlarining bug‘lanish issiqligi λa ~ 1.1 - 1.2 eV dan oshmaganda amalga oshirilishi aniqlandi. Katod dog‘ining xususiyatlari belgilandi;
    metall yuzasini vakuum yoyi bilan tozalashda optimal shartlar – anod yuzasining katod geometriyasini takrorlashi va elektrodlararo masofa 20-35 mm ekanligi aniqlandi, bu holda yuzaga yaqin qatlamda ikki qatlamli zona – tashqi qatlami ugleroddan tozalangan qalinligi 1 mkm gacha va “oq qatlam” qalinligi 10–12 mkm gacha shakllanadi, uning mikroqattiqligi 1,4-1,5 baravar oshadi va 681 kgs/mm² ni tashkil qiladi;
    ilk bor po‘lat yuzasiga qo‘yilgan past chiqish ishiga ega moddalar vakuum yoy razryadi bilan po‘lat yuzasini tozalash tezligiga, yoy razryadning yonish ehtimoliga ta’sir qilishi aniqlandi, xususan, KOH va NaOH ning yuza konsentratsiyasi 20% bo‘lganda tozalash tezligi 1,8 baravar oshadi, ishlov berilgan yuzaning g‘adir-budurligi esa 2,5 baravar kamayadi;
    ishlov berilayotgan metall yuzasini tozalash va keyinchalik qoplamalar qo‘yishning kompleks jarayoni asoslab chiqildi va amalga oshirildi, bu jarayonlarni bir texnologik siklda bajarish ishlov berilayotgan yuzaning yuqori ekspluatatsion xususiyatlarini shakllantirishi ko‘rsatildi;
    vakuum yoy razryadi yordamida uglerod elektrodlaridan iborat bo‘lgan sistemada texnik uglerod va oksid volfram glyukoza bilan biriktirilib 100-200 nm o‘lchamdagi volfram karbidi sintez qilindi;
    ilk bor quvurning tashqi yuzasini vakuum-yoy usulida tozalash va qoplamalar qoplash texnologik tizimi ishlab chiqildi, bu vakuumlangan hajmda, quvurning tashqi yuzasi va korpusning ichki yuzasi tomonidan shakllantiriladigan razryad tizimining texnologik qismi elementlari sifatida amalga oshiriladi, O‘zbekiston Respublikasi patenti bilan himoyalangan (№ IAP 05071, 17.04.2012 y.);
    ilk bor, metall quvur mahsulotning tashqi yuzasiga vakuum yoyi ta’sirida skanerlovchi elektr razryad yordamida, ishlov berish va qoplama qoplash modullari bilan elektr razryad bloki koaksial ravishda quvur mahsulotining tashqi yuzasiga joylashtirilib, ishlov berilayotgan yuza bo‘ylab harakatlanishi tizimi ishlab chiqildi. Ushbu natija O‘zbekiston Respublikasi patenti bilan himoyalangan (RUz. IAP 205116 (13) 31.07.2012 y.);
    ilk bor, radial magnit maydoni bilan plazma manbaini boshqarish tizimi ishlab chiqildi, vakuum yoy plazma manbaining plazma oqimi parametrlarini radial, multipol magnit maydoni bilan boshqaruvchi koaksial magnit tizimi ishlab chiqildi, bu plazma generatsiyasi samaradorligi va ishlov berilayotgan mahsulot yuzasini aktivlashtirish va qoplamalar qo‘yish sifatini oshiradi, O‘zbekiston Respublikasi patenti bilan himoyalangan (IAP06630, 20.04.2019 y.).
    IV. Tadqiqot natijalarining joriy qilinishi. Vakuumli yoy razryadi katod dog‘larining vakuum sharoitidagi quvursimon buyumlarning tashqi yuzasiga ta’sirini kompleks tahliliy va eksperimental tadqiqotlar asosida:
metall quvur tashqi yuzasini ishlov berish usuli va uni amalga oshirishga mo‘ljallangan qurilmaga Respublikasi O‘zbekiston patenti olindi (patent № IAP 05071, 17.04.2012 y.), bunda vakuumli yoy razryadining katod dog‘lari metall yuzasiga texnologik ta’sirini shakllantirish bo‘yicha kompleks tadqiqotlar natijalari qo‘llanilgan. Natijada, vakuumli texnologik ta’sir ko‘rsatish zonasini yaratish orqali samarali echimga erishilgan, bu esa korpusning ichki yuzasi hamda unda koaksial joylashtirilgan quvurning tashqi yuzasiga ishlov berish orqali amalga oshiriladi;
vakuumda silindrik aylana (ichi bo‘sh) buyum yuzasiga elektrozaryadli ta’sir ko‘rsatish usuli va uni amalga oshirish qurilmasi bo‘yicha ham O‘zbekiston Respublikasining patenti olindi (patent № IAP 205116, C23, 31.07.2012 y.). Unda metall yuzaga katod dog‘lari orqali texnologik ta’sir ko‘rsatish asoslari ishlab chiqilib, koaksial elektrod tizimidan foydalanish imkoniyatlari namoyon qilingan. Natijada, ishlov berish yuzasini tozalash va unga qoplama qoplash jarayonlarini yagona texnologik siklda amalga oshirishning optimal sharoitlari belgilandi. Bu esa texnologik jarayonni optimallashtirish, uning samaradorligini va mahsulot yuzasining funksional xususiyatlarini oshirish imkonini berdi;
vakuumli yoy manbasi plazma oqimini boshqarish usuli bo‘yicha ham O‘zbekiston Respublikasi patenti olindi (patent № IAP 06630, 17.11.2019 y.), u erda vakuumli yoyi plazma manbasi oqimiga boshqaruvni amalga oshirishning fizik asoslari belgilandi. Plazma oqimiga perpendikulyar ravishda joylashtirilgan magnit qoziqlar orqali radial, multipol magnit maydoni hosil qilish usuli taklif etildi. Bu usul, plazmada ionlarning optimal fazoviy taqsimotini ta’minlash va ishlov beriluvchi yuzada tozalash, aktivlash va qoplamalar qoplash jarayonlarini samarali amalga oshirish imkonini beradi.