Саитов Элёр Бахриддиновичнинг

фалсафа доктори (PhD) диссертацияси ҳимояси ҳақида эълон

I. Умумий маълумотлар.

Диссертация мавзуси, ихтисослик шифри (илмий даража бериладиган фан тармоғи номи): «Никел киришма атомларига эга бўлган кремний асосида самарадорлиги юқори фотоэлементлар технологиясини яратиш ва олиш», 01.04.10–Яримўтказгичлар физикаси (техника фанлари).

Диссертация мавзуси рўйхатга олинган рақам: B2017.2.PhD/Т81.

Илмий раҳбар: Зикриллаев Нурулло Фатхуллаевич, физика-математика фанлари доктори, профессор.

Диссертация бажарилган муассаса номи: Тошкент давлат техника университети.

ИК фаолият кўрсатаётган муассасалар номи, ИК рақами: Тошкент давлат техника университети, Ўзбекистон Миллий университети,  DSc.28.02.2018.FM/T.03.05.

Расмий оппонентлар: Абдуқодиров Мухиддин Абдурашидовичтехника фанлари доктори, профессор; Тагаев Марат Баймуратович техника фанлари доктори, профессор.

Етакчи ташкилот: Фарғона политехника институти.  

Диссертация йўналиши: назарий ва амалий аҳамиятга молик.

II. Тадқиқотнинг мақсади: тартибланган микро ва наноструктураларга эга бўлган материалларни олиш технологияси ва никел киришма атомларига эга бўлган кремний асосида самарадорлиги юқори қуёш элементларини  ишлаб чиқишдан иборат.

III. Тадқиқотнинг илмий янгилиги:

кремний материалларининг ҳажми бўйича тенг тақсимланган ва электрофизик параметрлари бошқариладиган никел киришма атомларининг тартибланишга имкон берадиган паст ҳароратли диффузия жараёнининг технологияси такомиллаштирилган;

фотоэлементлардаги фотоўтказувчанликда заряд ташувчиларнинг туннель ўтиш эффектлари учун никель нанокластерлари ўртасидаги масофаларни ҳажм бўйича тенг тақсимланиш технологияси ишлаб чиқилган;

қўшимча ҳароратли ишлов беришдан сўнг кластерларнинг турли концентрацияларига эга бўлган намуналари асосида фотоэлементлар тайёрланган ва уларнинг электрофизик параметрлари аниқланган;

никел киришма атомлари кластерларига эга кремний асосида ишлаб чиқилган фотоэлементларнинг самарадорлиги, деградацияга чидамлилиги ва радиацион нурланишга барқарорлиги оширилган.

IV. Тадқиқот натижаларининг жорий қилиниши.

Никел киришма атомларига эга бўлган кремний асосида самарадорлиги юқори фотоэлементлар технологиясини яратиш ва олиш асосида:

никел киришма атомларини кремний материалларига диффузия орқали юқори ҳароратда киритиш ва ишлов бериш технологияси “FOTON” акциядорлик жамиятида киришмалар билан лигерланган кремнийга қайта ишлов беришда фойдаланилган (“Ўзэлтехсаноат” акциянерлик компаниясининг 2018 йил 9 июлдаги 02-1517-сон маълумотномаси). Илмий натижаларни қўлланилиши кремнийда никел кластерларнинг ҳосил қилиш ва тартибланишига имкон берган;

кремний материалларининг ҳажми бўйича тенг тақсимланган ва электрофизик параметрлари бошқариладиган никел киришма атомларининг тартибланишига имкон берадиган паст ҳароратли диффузия жараёнининг такомиллаштирилган технологияси “FOTON” акциядорлик жамиятида киришма атомлари нанокластерларини тартибли шакллантиришда қўлланилган (“Ўзэлтехсаноат” акциянерлик компаниясининг 2018 йил 9 июлдаги 02-1517-сон маълумотномаси). Илмий натижалардан фойдаланиш киришма атомлари билан лигерланган кремний материалларини ҳароратга, радиацияга ва гамма нурланишга барқарорлигини оширишган.